와이씨켐의 극자외선 포테레지스트용 Rinse(EUV PR Rinse)는 반도체 EUV 노광 공정에서 감광액 도포 후에 사용되며, 극자외선(EUV) 공정에서 짧은 광원 파장
2001년 설립돼 2022년 코스닥 시장에 상장된 와이씨켐은 첨단 반도체 소재 개발 기업이다. 반도체 소재 개발에서 최초의 이력을 다수 가지고 있다. 2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse 도 세계 최초로 선보였다. 와이씨켐은 현재 다양한 EUV 광원용 소재 개발을 진행 중이며, EUV Thinner, Developer 양산을 시작하였으며, EUV PR, EUV Underlayer 제품들도 개발하고 있다.<끝>.
글로벌에픽 증권팀 박진현 기자 epic@globalepic.co.kr
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